自爆的主要原因：NiS晶體(>0.06mm)變相后體積增大，導致局部應力平衡破壞；

自爆的的不可預知性：現有浮法玻璃生產(chǎn)線(xiàn)僅能檢測出>0.2mm的雜質(zhì)粒，因此無(wú)法檢測出NiS的存在；

自爆概率：目前尚無(wú)任何標準明確給出數值，根據統計每四噸玻璃存在一粒NiS，按厚度6mm面積1m2計相當于0.3%, 國際行業(yè)一般認同0.3-0.8%，與玻璃尺寸有關(guān)

關(guān)于自爆率的標準值：國內外目前無(wú)標準值。

降低自爆的措施：

    采用半鋼化玻璃

    采用超白玻璃

    采用熱浸處理

    采用優(yōu)質(zhì)浮法玻璃